韋爾半導體申請一種安全工作區MOSFET器件的製備方法及器件專利，降低生產成本

金融界2025年6月11日消息，國家知識產權局信息顯示，上海韋爾半導體股份有限公司申請一項名爲“一種安全工作區MOSFET器件的製備方法及器件”的專利，公開號CN120129297A，申請日期爲2025年02月。

專利摘要顯示，本申請實施例還提供一種安全工作區MOSFET器件的製備方法及器件，本申請將第一接觸孔間隔設置不同寬度，本申請製備方法制備的MOSFET器件的導通電阻相比於傳統寬SOA產品導通電阻小很多，而且可以降低生產成本，簡化工藝流程。

天眼查資料顯示，上海韋爾半導體股份有限公司，成立於2007年，位於上海市，是一家以從事軟件和信息技術服務業爲主的企業。企業註冊資本121442.6982萬人民幣。通過天眼查大數據分析，上海韋爾半導體股份有限公司共對外投資了38家企業，參與招投標項目10次，財產線索方面有商標信息25條，專利信息192條，此外企業還擁有行政許可13個。

本文源自：金融界

作者：情報員