中芯國際取得圖形修正方法及半導體結構的形成方法專利

金融界2025年2月19日消息，國家知識產權局信息顯示，中芯國際集成電路製造（上海）有限公司、中芯國際集成電路製造（北京）有限公司取得一項名爲“圖形修正方法及半導體結構的形成方法”的專利，授權公告號 CN 114063380 B，申請日期爲 2020年8月。

天眼查資料顯示，中芯國際集成電路製造(上海)有限公司，成立於2000年，位於上海市，是一家以從事計算機、通信和其他電子設備製造業爲主的企業。企業註冊資本244000萬美元，實繳資本244000萬美元。通過天眼查大數據分析，中芯國際集成電路製造(上海)有限公司共對外投資了4家企業，參與招投標項目120次，知識產權方面有商標信息146條，專利信息5000條，此外企業還擁有行政許可442個。

本文源自：金融界

作者：情報員