臺積電內鬼工程師外洩二奈米技術...3人不服被押提抗告 全遭駁回確定

臺積電。本報資料照片

臺積電內鬼竊取現階段全球最先進的晶片製造工藝二奈米制程關鍵技術，工程師陳力銘等3人被遭臺灣高等檢察署依國安法竊取國家核心關鍵技術罪嫌，聲請羈押禁見，智慧財產及商業法院裁準。3人不服提抗告，最高法院今裁定駁回抗告確定。

臺積電預計今年底前量產二奈米制程晶片，該技術被視爲現階段全球最先進的晶片製造工藝，因開發難度大，投入成本極高，政府將此列爲「國家核心關鍵技術」，一旦外泄將衝擊臺灣半導體產業與國安，這也是國安法3年前修法納管後，檢調首件偵辦的國家核心關鍵技術營業秘密案。

檢方上月25日至28日指揮調查局新竹市調站、資安站及北機站兵分六路搜索涉案工程師住處及東京威力科創在新竹的辦公室等地點，查扣電磁紀錄與雲端資料。

據調查，陳、戈目前已離職，吳則爲現任。陳離職跳槽與臺積電長期合作的TEL擔任設備工程師，涉「內神通外鬼」由吳、戈居家遠端辦公時，用公司發配的筆電在家連線登入臺積電內網，陳直接在旁持手機翻拍電腦螢幕中二奈米制程技術圖檔。

高檢署指出，本案是臺積公司主動察覺在職員工檔案接觸異常，內部調查後，發現公司的國家核心關鍵技術營業秘密，疑遭前員工及在職員工非法取得，向高檢署提告。

高檢署訊後向法院聲請羈押禁見陳、吳、戈3人，智財法院全數裁準，3人不服提抗告，最高法院認爲原裁定沒有違誤，裁定駁回抗告，3人確定羈押禁見。