工程師成內鬼！臺積電2奈米技術危險了？專家曝關鍵

臺積電爆出內鬼泄密。（示意圖，達志影像/shutterstock）

臺積電最先進的2奈米制程驚爆內鬼案，傳出上千張製程技術照片外泄，全流向日本半導體國家隊Rapidius股東的東京威力科創（TEL），目前臺積電已將涉案員工解職並移送法辦。對此，半導體分析專家、知識力科技執行長曲建仲（曲博）揭露，2奈米制程使用的技術，最困難的是良率調整，臺積電目前良率夠高，其它廠商做了2、3年仍做不到，因此若工程師竊取的是關鍵數字，「當然很有價值」。

據瞭解，泄密主嫌爲一名自臺積電離職並轉任東京威力科創工程師的陳姓男子，他涉嫌勾結臺積電內部兩名吳姓工程師，從去年起疑似透過遠端遙控手機等方式，重製並拍攝長製程機密，累積上千張機密照片，再私下交由陳男，雙方約在竹科星巴克碰面。

曲博6日接受《ETtoday新聞雲》訪問時分析，各界都想知道臺積電是怎麼達成2奈米良率的高品質，的確會令人憂心技術外流；他相信這是工程師個人行爲，而非涉及日商東京威力科創公司授意，因此日方也很重視此事，協助調查。曲博說，臺積電與東京威力科創關係密切，彼此爲重要的客戶與供應商，很難斷開；若調查後認定僅是個人行爲，應不致於破壞合作關係。

曲博解釋，2奈米制程使用的「環繞閘極場效電晶體」（GAA）技術，最困難的是良率調整，因爲其製作流程複雜度非常高，「良率要做高很難」；而臺積電是目前能把良率做到夠高，且是在成本要求範圍之內的領先者。