大陸技術落後至少20年！高盛爆「震撼真相」只能生產65奈米

高盛認爲，大陸本土研發曝光機的技術落後西方至少20年，本土曝光機目前僅能生產65奈米的半導體。（圖／shutterstock達志）

大陸無法取得生產先進半導體的極紫外光EUV曝光機，使得大陸只能使用次級的深紫外光DUV曝光機，自主生產晶片的能力停留在7奈米。高盛認爲，大陸本土研發曝光機的技術落後西方至少20年，本土曝光機目前僅能生產65奈米的半導體。

外媒wccftech報導，高盛最新報告指出，全球最大半導體設備商艾司摩爾ASML花了20年，投入超過400億美元研發與資本支出，纔將曝光機技術從65奈米推進至3奈米以下，目前大陸本土曝光機技術仍停留在65奈米階段，短期內不太可能追上西方世界的水準。

艾斯摩爾擁有全世界最先進的曝光機技術，唯一能夠生產EUV機臺的廠商，大陸雖然能不斷改良DUV機臺推進生產半導體的實力，但存在成本過高、效率過低且良率不佳的問題。

華爲旗下產品使用中芯的7奈米技術，但更先進的5奈米技術尚未商用，且市場流言衆說紛紜，wccftech曾引用南韓金融服務商Kiwoom Securities的報告指出，中芯雖然在5奈米發展上取得進展，但成本比臺積電高出50%，且良率僅臺積電的三分之一。

大陸工信部去年曾公告，大陸已經成功自主研發DUV機臺，可生產8奈米及以下晶片，雖然與艾司摩爾存在差距，但至少能夠填補空白。大陸工信部也期待未來能夠國產EUV機臺，擺脫西方國家的牽制。

目前臺積電、英特爾與三星都是利用艾司摩爾的EUV機臺推進技術，臺積電最先進的2奈米技術預計在第四季量產，已經獲得蘋果、超微及輝達等大客戶的訂單。