臺積電3內鬼 最重求刑14年

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喧騰一時的臺積電「內鬼竊密案」，檢調查出，前臺積電工程師陳力銘，因轉至臺積電半導體設備商「東京威力科創」，爲協助新東家爭取成爲臺積電先進製程更多站點設備供應商，利用與前同事吳秉駿、戈一平2人交情，教唆2人以電腦遠端連線進入資料庫，拍攝10多張臺積電2奈米制程機密檔案照交付陳男運用，竊密長達1年半。臺灣高檢署智財分署27日起訴陳、吳、戈3人，並具體求處陳男徒刑14年、吳男9年、戈男7年。

臺積電昨強調，對於任何違反保護營業秘密及損害公司利益的行爲，始終秉持零容忍的態度，絕對從嚴處理，追究到底。

檢方痛批陳男3人外泄我國核心關鍵技術，嚴重威脅半導體產業國際競爭力，犯罪情節重大，求處重刑，目前陳男3人在押，智財分署最快下週一移送智財法院審理。本案爲首起《國安法》起訴國家核心關鍵技術外泄案。

至於涉案的廖姓3名臺積電工程師，因僅涉《營業秘密法》告訴乃論之罪刑責，因臺積電表示不提告，智財分署另予簽結。智財分署另分案追查日商「東京威力科創」等法人及自然人是否涉有相關刑事責任。

起訴指出，陳力銘曾擔任臺積電12廠的良率部門工程師，離職後至臺積電的半導體制造設備供應商東京威力科創任職。陳男爲尋求表現，計劃替東京威力爭取成爲臺積電先進製程更多站點設備供應商，利用與吳、戈、廖男等人舊情誼，央請他們提供業務接觸到之臺積電2奈米制程機密，供陳拍攝重製。

吳、戈等人自2023年7、8月起，至今年6、7月間，多次利用臺積電配發公務筆電以遠端連線進入資料庫竊取包括2奈米晶片製程等機密，再以手機拍攝後以通訊軟體傳送給陳男，陳男再將機密提供東京威力公司檢討改善蝕刻機臺表現，爭取臺積電2奈米制程蝕刻站點供應量產機臺之資格。

臺積電透過AI防護措施，分析測得有員工疑似違法進入資料庫、且瀏覽資料的行爲模式異常，懷疑員工竊密，今年7月8日向智財分署提出告訴。

檢方因陳男3人部分犯罪時間是在《國安法》修法前，部分犯行涉犯《營業秘密法》，其中陳男涉犯《營業秘密法》意圖域外使用而竊取營業秘密罪求刑5年、竊取營業秘密罪求刑3年、《國安法》國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪求刑8年，應執行徒刑14年；吳男涉犯《營業秘密法》求刑4年、《國安法》求刑7年，應執行徒刑9年；戈男涉犯《國安法》求刑7年。

《日經亞洲》昨日刊出剛請辭的國發會主委劉鏡清專訪，他提到日商TEL旗下員工涉嫌竊取臺積電營業秘密事件。儘管如此，他表明這不會動搖臺、日企業的長期合作關係，並表示臺積電將根據調查結果採取下一步行動。