臺積電2奈米技術外泄案！3名工程師抗告遭駁回　羈押確定

臺積電（中時資料照片）

檢方執行臺積電國家核心關鍵技術之營業秘密遭非法取得案，拘提陳力銘等3工程師並聲押獲准，3人不服提抗告，最高法院認爲，智財商業法院以3人有湮滅證據及勾串證人之虞，裁定羈押並無違誤，因而抗告駁回。

高檢署表示，陳男3人涉犯《國安法》第3條第1項第2款「知悉或持有國家核心關鍵技術之營業秘密，未經授權或逾越授權範圍而重製、使用或泄漏該營業秘密給外國機構」，依法可處3年以上、10年以下有期徒刑，得併科新臺幣500萬元以上、5000萬元以下之罰金。

高檢署表示，本案是臺積電主動查覺在職員工檔案接觸異常，經臺積電內部調查後，發現時任臺積電竹科廠吳姓2名工程師，勾結陳姓前工程師，將屬於國家核心關鍵技術營業秘密的2奈米晶片製成技術機密，泄漏給國外競爭對手，遂向臺高檢智財分署提出告訴，由智財分署檢察官指揮調查局新竹巿調查站、資訊安全工作站及北部機動工作站偵辦。

檢調自今年7月25至28日一連四天，陸續傳喚、拘提陳男、吳男共3名被告及搜索3人住居所，檢察官訊後認爲，陳男3人涉嫌違反《國家安全法》犯罪嫌疑重大，檢察官訊後向智慧財產及商業法院聲請羈押禁見均獲准。