微影半導體突破曝光技術　推業界稀缺步進式微米級投影曝光機

微影半導體核心技術雖源自歐美，但經十餘年整合與自主研發，成功結合 LED 光源與超高焦距深度投影鏡頭，推出業界稀缺的「步進式微米級投影曝光機」，具備節能、環保及高性價比優勢，微影成爲少數掌握關鍵製程設備技術的臺灣廠商，在全球設備高度集中且依賴進口的市場格局中具備突圍契機。

微影半導體與駿吉控股同由董事長鬍德立領軍，在新商業模式推動下，微影今年營收可望達 1 至 1.5 億元，並規劃明年第四季登錄興櫃；同時於竹科設立研發中心、臺南建置生產基地，強化研發與製造一體化佈局。

全球半導體設備市場規模約 1,240 億美元，預計 2030 年將達 1,779.7 億美元，年複合增長率 7.5%；其中步進式曝光設備（Stepper Systems）從 2021 年的 182 億美元，預計 2031 年將成長至 450 億美元，年增率達 9.5%，亞太爲主要成長動能。

胡德立指出，韓國與中國在官方資金與本土品牌帶動下，已發展出曝光機、濺鍍機等核心製程設備，並躋身全球前十大設備商；反觀臺灣雖爲全球晶圓代工龍頭，但核心設備多依賴代理進口，國產廠商僅能聚焦於非製程周邊設備，難以切入製程核心。

爲突破困境，駿吉採取「晶片導入設備」策略，透過自有 DDR 記憶體晶片外包，帶動封裝廠採用集團的晶圓切割、貼片、測試設備，形成一條龍供應鏈；未來結合臺廠濺鍍機、蝕刻機與微影的曝光機，構建自主設備聯盟，從製程、製造到封裝建立完整在地產業鏈，減少對歐美日的依賴。

微影並同步研發濺鍍機與蝕刻機，年底駿吉啓動 DDR5 晶片製程後，曝光機業務可望同步受惠，進一步推升營收與獲利表現。