上海新微技術研發中心申請光刻膠脫氣監測系統及方法專利，實現對光刻工藝中光刻膠脫氣濃度的實時監控

金融界2025年6月14日消息，國家知識產權局信息顯示，上海新微技術研發中心有限公司申請一項名爲“一種光刻膠脫氣監測系統及方法”的專利，公開號CN120143560A，申請日期爲2025年04月。

專利摘要顯示，本發明公開了一種光刻膠脫氣監測系統及方法，所述光刻膠脫氣監測系統包括光刻顯影設備和傳感器系統，光刻顯影設備包括光刻機和顯影機，光刻機內設置有晶圓放置平臺和光學元件，顯影機內設置有晶圓後烘熱板，晶圓放置平臺和晶圓後烘熱板用於放置塗有光刻膠的晶圓；傳感器系統包括與控制器相連的第一、第二和第三傳感器模塊，第一傳感器模塊包括至少一個設置在光學元件所在位置處的第一晶振膜厚測量傳感器，第二傳感器模塊包括至少一個設置在所述晶圓放置平臺上的第二晶振膜厚測量傳感器，第三傳感器模塊包括至少一個設置在晶圓後烘熱板上的第三晶振膜厚測量傳感器。

天眼查資料顯示，上海新微技術研發中心有限公司，成立於2013年，位於上海市，是一家以從事計算機、通信和其他電子設備製造業爲主的企業。企業註冊資本144416萬人民幣。通過天眼查大數據分析，上海新微技術研發中心有限公司共對外投資了21家企業，參與招投標項目476次，財產線索方面有商標信息52條，專利信息692條，此外企業還擁有行政許可44個。

本文源自：金融界

作者：情報員