《科技》愛德萬測試發表先進光罩CD-SEM 攻先進製程商機

愛德萬測試指出，相較於前代產品3650，E3660的關鍵尺寸（CD）提升逾2成，幫助製程工程師滿足2奈米節點及更先進製程對光罩製造的嚴格要求。透過強化先進元件製造中的微影製程控制，實踐公司在半導體價值鏈中提供全面性測試解決方案的願景。

在先進半導體元件製造中，隨着製程不斷微縮、圖樣日益複雜，微影熱點急遽增加，這些區域在多重曝光及圖樣轉移過程中特別容易產生錯誤，加上用於形成晶圓電路圖的光罩持續演進，層數更多、幾何更加精細，使需進行尺寸量測的位置大增。

量測系統除要滿足高產出要求，還要具備更優異的再現性。此外，多光束光罩寫入技術及高效運算（HPC）能力持續發展，業界開始逐步導入曲線式光罩圖樣，預計在2027年前後，將隨着元件製造採用高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影技術而被大量部署。

爲確保在上述背景下仍能維持「從設計到光罩」的一致性，CD-SEM除需提供具高再現性的關鍵尺寸量測結果，還要產出更能真實呈現圖樣輪廓的電子顯微鏡（SEM）影像。而量測解決方案亦須進化，結合能評估複雜光罩特性與原始設計意圖間偏差的曲率敏感演算法。

愛德萬測試表示，在研發E3660時，公司與領先全球的奈米電子與數位技術研究創新中心imec合作，驗證E3650與前代CD-SEM及基於電子設計自動化（EDA）參考資料所產出的CD-SEM結果間關聯性，協助公司提升量測可靠度。

愛德萬測試對此與imec攜手開發及驗證針對曲線幾何的創新量測技術，最新E3660平臺正是此次合作成果，實了2奈米節點光罩製造所需的高再現性、因應日益增加的量測位置高產出量測能力，並針對曲線圖樣提供獨特量測功能。

愛德萬測試表示，E3660定位爲先進光罩開發與生產合格試驗的關鍵評估工具，初步鎖定爲外部客戶生產光罩的獨立光罩廠（Merchant Mask Shop）和半導體制造廠內部的自制光罩廠（Captive Mask Shop）爲部署目標。