華爲背後晶片黑馬 陸版ASML崛起助攻5奈米制程

大陸衝刺晶片業。(圖:shutterstock/達志)

美國出口管制持續升級，北京政府強力推動半導體自主化，路透最新報導，與華爲關係密切的大陸半導體設備製造商新凱來（SiCarrier），其正尋求28億美元（約新臺幣855億元）首輪增資，將用於擴大研發規模，傳出大陸寄望新凱來與荷商艾斯摩爾（ASML）競爭，減少依賴海外公司。

爲了打破ASML的壟斷，新凱來推出一系列尖端晶片製造設備，但礙於資金不足，知情人士透露新凱來希望籌集28億美元，根據瞭解，這次增資預計將在幾周內完成，國內創投公司等多家實體都有意投資。

而大陸及華爲的整個目標是不再依賴舊的深紫外線曝光機（DUV），專注於打造「最先進的」極紫外線曝光機（EUV），期盼能夠突破7奈米障礙。

大陸最大的半導體制造公司中芯國際目前僅能量產7奈米晶圓，因爲要過渡到5奈米技術，需要多個圖案化步驟，將增加成本並降低良率。

目前大陸大部分雄心壯志可能落在新凱來身上。但報導認爲，大陸要實現這些目標將是一項代價高昂的任務，即使有北京資金支持，但要開發曝光機量產晶圓，恐仍是個遙遠的夢想。