湖北興福電子申請硅片清洗蝕刻液專利，有效抑制硅片表面氧化

金融界2025年4月19日消息，國家知識產權局信息顯示，湖北興福電子材料股份有限公司申請一項名爲“21463.硅片清洗蝕刻液及其在抑制硅片表面氧化中的應用”的專利，公開號CN119799338A，申請日期爲2024年12月。

專利摘要顯示，本發明涉及電子化學品技術領域，具體公開了一種硅片清洗蝕刻液及其在抑制硅片表面氧化中的應用，該蝕刻液中按質量百分數計，含有氫氟酸0~10%，氟化銨0~30%和添加劑0.001~1%，其餘爲水；所述添加劑爲含有烯烴和酰胺的化合物。本發明中以氫氟酸和氟化銨組成清洗體系，同時引入了含有烯烴和酰胺的化合物作爲添加劑，通過改性硅片表面的自由基團，其能夠有效抑制硅片清洗後表面自然氧化，保證後續製造工藝的穩定和精度。

天眼查資料顯示，湖北興福電子材料股份有限公司，成立於2008年，位於宜昌市，是一家以從事化學原料和化學制品製造業爲主的企業。企業註冊資本36000萬人民幣。通過天眼查大數據分析，湖北興福電子材料股份有限公司共對外投資了6家企業，參與招投標項目160次，財產線索方面有商標信息4條，專利信息380條，此外企業還擁有行政許可277個。

本文源自：金融界

作者：情報員