光馳科技申請一種真空處理腔室及多腔室真空處理裝置專利，減少真空處理腔室結構複雜程度及製造成本

金融界2025年7月11日消息，國家知識產權局信息顯示，光馳科技（上海）有限公司申請一項名爲“一種真空處理腔室及多腔室真空處理裝置”的專利，公開號CN120291033A，申請日期爲2025年05月 。

專利摘要顯示，本發明屬於工件真空處理技術領域，公開了一種真空處理腔室及多腔室真空處理裝置。真空處理腔室的頂部和/或底部轉動設置有第一配合件，真空處理腔室包括工件裝載機構，其沿第一方向可移動設置於真空處理腔室，包括容置框和工件架，多個工件裝載於工件架，工件架沿豎直方向設置有中心軸，工件架能繞中心軸轉動設置於容置框，中心軸頂部和/或底部連接有第二配合件；第一配合件能夠沿靠近或遠離第二配合件的方向移動，以與第二配合件配合或脫離配合。

天眼查資料顯示，光馳科技（上海）有限公司，成立於2000年，位於上海市，是一家以從事電氣機械和器材製造業爲主的企業。企業註冊資本80000萬日元。通過天眼查大數據分析，光馳科技（上海）有限公司共對外投資了6家企業，參與招投標項目38次，財產線索方面有商標信息19條，專利信息317條，此外企業還擁有行政許可46個。

本文源自：金融界

作者：情報員