EV集團申請在抽真空的處理空間中對基板進行處理的裝置和方法專利，用於在局部的且流體密封的處理空間中對基板進行處理、尤其納米壓印

金融界2025年7月21日消息，國家知識產權局信息顯示，EV集團E·索爾納有限責任公司申請一項名爲“在抽真空的處理空間中對基板進行處理的裝置和方法”的專利，公開號CN120344909A，申請日期爲2023年01月。

專利摘要顯示，本發明涉及一種用於在局部的且流體密封的處理空間（14）中對基板（13）進行處理、尤其納米壓印的裝置和方法。

本文源自：金融界

作者：情報員