不用臺積電救了？外媒曝英特爾關鍵轉變：花了7年徹底覺悟

英特爾想重返半導體技術龍頭。(圖:shutterstock/達志)

英特爾在晶片代工業務遭遇瓶頸，相關傳言不斷，近期傳出美國政府可能促成英特爾與臺積電攜手成立合資企業，科技媒體《PhoneArena》撰文分析，英特爾最新購買的High-NA EUV曝光機已投入生產，展示其想重奪半導體技術龍頭的決心。

報導指出，英特爾日前在美國加州聖荷西舉行的會議上提到，最新購買的兩臺High-NA EUV曝光機已投入生產，預估將可生產3萬片晶圓產能。英特爾強調，新機器的可靠性相比原本的EUV機器高出一倍。

報導分析，英特爾花了長達7年的時間，才意識到可透過極紫外線微影(EUV) 技術，試圖從臺積電和三星手中奪回半導體先進製程的領先地位。英特爾過去在製造10奈米晶片時遭遇問題，部分原因在於依賴較舊的曝光設備，爲了避免再次犯下相同錯誤，果斷決定購買High-NA EUV曝光機，展現東山再起的雄心。

根據瞭解，英特爾最新購買的High-NA EUV曝光機，將用於協助生產採用英特爾18A製程節點的晶片，專供代號爲Panther Lake的筆記型電腦晶片使用。

英特爾代工服務 (IFS) 正力拚從臺積電與三星代工廠手中奪回先進製程領導地位。根據規劃，英特爾A18製程計劃將在今年下半年開始量產，與臺積電與三星代工廠的2奈米制程類似，後兩者將在2025年下半年展開量產。

英特爾首席工程專案經理博內蒂（Joseph Bonetti）日前在Linkedin上喊話，直指將製造業務交給臺積電是個錯誤決定，並強調英特爾18A製程比臺積電2奈米優秀，英特爾最終會拿回晶片製造領導地位。