《半導體》低檔反彈逾68% 新應材飆逾2個半月高

新應材原以面板及半導體光學元件光阻材料起家，2018年轉型投入半導體先進製程，聚焦開發良率關鍵的微影（Lithography）特化材料，目前聚焦半導體先進微影製程、半導體光學元件製程、顯示器製程、Micro LED量子點材料等四大主軸，並於1月17日轉上櫃掛牌。

新應材2025年首季合併營收9.59億元，季增4.82％、年增38.64％，歸屬母公司稅後淨利創2.07億元新高，季增20.03％、年增20.08％，雙雙改寫新高，每股盈餘2.28元則創次高。毛利率、營益率「雙升」至39.05％、19.95％，分創歷史新高及次高。

新應材4月自結合並營收4.02億元，月增23.34％、年增37.48％，連2月改寫新高。累計前4月合併營收13.61億元、年增38.34％，續創同期新高。隨着半導體特化材料維持穩健成長，今年營收目標維持雙位數成長、挑戰連5年創高，並看好2026年動能進一步增強。

新應材指出，目前除了以光阻周邊特化材料爲發展基礎外，已成功開發深紫外光（DUV）光阻，可應用半導體微影製程及光學元件製程，目標成爲首家半導體光阻本土供應商。2025年目標半導體業產品營收成長逾2成、顯示器業產品營收衰退低於2成。

同時，新應材2025年營運聚焦2重點，包括高雄二廠暨臺南廠二期試產及客戶驗證完成，作爲新增產能及營收成長動能關鍵，以及持續開發客製化的特定產業應用創新產品，以此滿足客戶需求，並實現今年營運目標及未來發展藍圖。

投顧法人指出，新應材在3奈米制程中已有多項產品導入量產，預期2025年將持續受惠3奈米制程需求增加。而2奈米將於下半年開始量產，新應材的洗邊劑（EBR）和底部抗反射層（BARC）已打入2奈米供應鏈，對錶面改質劑（Rinse）等產品用量將持續增加。

投顧法人看好新應材應用於先進微影製程的Rinse，將受惠3奈米制程需求增加，EBR與BARC跟隨2奈米制程於下半年量產，極紫外光（EUV）光罩層數提升將帶動耗材需求大幅提高，看好2025年有望賺達1股本、2026年將喜迎大幅成長。