中芯傳試產大陸自製 DUV 拚7奈米 激勵股價創高

知情人士透露，中芯正在測試一臺28奈米（nm）DUV微影設備，並利用所謂「多重圖樣化技術」（multi-patterning techniques）來生產7奈米晶片。路透

英國金融時報引述知情人士報導，中芯國際正在測試由上海新創公司宇量升科技研發的深紫外光（DUV）微影設備，力圖挑戰西方業者在人工智慧（AI）晶片領域的優勢。

金融時報指出，若能量產先進DUV曝光機，將是中國大陸突破美國晶片出口管制的一大勝利，不僅可減少對西方技術的依賴，也能提升先進AI處理器的產能。

受此消息激勵，中芯在上海掛牌股價一度飆漲10%，創下歷史新高；香港掛牌股票也上漲6.9%，同樣刷新紀錄。

Bernstein 半導體分析師林清遠（Lin Qingyuan）說：「若測試成功，這將是中國企業的重要一步，未來可在此基礎上推進更先進的設備。」

迄今爲止，中芯國際和其他大陸晶片製造商仍依賴荷蘭艾司摩爾（ASML）的設備。艾司摩爾是全球先進微影機臺的主導廠商，但近年來在美國出口管制下，大陸取得新機臺的管道受限。大陸本土廠商上海微電子生產的DUV曝光機技術相對落後。

同時，大陸仍無法取得最先進的晶片製造設備──極紫外光（EUV）曝光機。這類機臺用於生產輝達（NVIDIA）所需的尖端晶片。

知情人士透露，中芯正在測試一臺28奈米（nm）DUV微影設備，並利用所謂「多重圖樣化技術」（multi-patterning techniques）來生產7奈米晶片。據透露，中芯試用的這類設備，也可能被推到極限以生產5奈米處理器，但良率會偏低，無法再進一步製造更先進的產品。

相較之下，臺積電（2330）引進艾司摩爾最新一代EUV設備，今年將開始量產最先進的2奈米晶片。