中芯傳測試國產DUV 上海宇量昇產製28奈米曝光機

消息稱中芯國際正測試28奈米DUV曝光機，以降低對ASML的依賴。圖爲ASML曝光機。（路透）

英媒引述知情人士透露，大陸晶圓代工一哥中芯國際正在測試首款大陸國產深紫外光（DUV）微影設備（也稱DUV曝光機），由上海新創公司宇量升生產的28奈米DUV曝光機，藉由「多重曝光」（multi-patterning）可生產7奈米AI晶片，初步測試結果令人鼓舞。

不過，目前尚不清楚該曝光機是否何時能用於晶片的量產。

受此消息激勵，中芯國際在上海科創板掛牌A股一度飆漲10%，創下歷史新高；香港掛牌H股也收漲7.12%，同樣刷新紀錄。高盛最新報告將中芯國際H股目標價上調15%至港幣73.1元，主因看好大陸IC設計需求和AI趨勢，將強勁支撐中芯國際的產量與平均售價。

英國金融時報報導，中芯國際正在測試宇量升生產的DUV，該機器採用浸沒式技術，類似艾司摩爾（ASML）採用的技術，雖然是28奈米DUV，但藉由「多重曝光」可以生產7奈米晶片。

上海宇量升科技公司是一家成立於2022年的國資控股高科技企業，專注於半導體曝光機的設備研發，註冊資本人民幣10億元，總部位於上海浦東新區，網傳最新工商信息顯示，該公司控股權由兩家公司平分，分別爲深圳市新凱來技術有限公司以及創科微（上海）技術有限公司，持股均爲50％，並與華爲、上海微電子、清華大學等技術合作。

報導稱，若該大陸國產DUV能成功量產，將幫助大陸突破美國對晶片出口管制，降低對西方技術依賴，並提升先進AI晶片產能。貝恩公司半導體分析師林清遠表示，此舉若成功，將成爲大陸企業研發更先進設備的重要基礎。

中芯計劃在2026年將產能提高三倍。大部分增產仍將使用現有ASML的DUV設備，大陸國產設備預計最早2027年開始量產。不過，外界認爲，中芯要從原型機到量產並與ASML競爭，仍需數年時間。

迄今爲止，中芯國際和其他大陸晶片製造商仍依賴ASML的設備，ASML是全球先進微影機臺的主導廠商，但近年來在美國出口管制下，大陸取得新機臺的管道受限。

大陸本土廠商上海微電子生產的DUV曝光機技術相對落後。同時，大陸仍無法取得最先進的晶片製造設備--極紫外光（EUV）曝光機。這類機臺用於生產輝達所需的尖端晶片。

值得注意的是，深圳市新凱來（SiCarrier）爲宇量升股東之一，也投入EUV研發，但仍處於早期階段。新凱來今年3月在上海半導體大會展示大量先進設備，挑戰東京電子與美國應用材料等國際廠商，其設備線以大陸的高山命名，EUV專案內部代號爲「珠穆朗瑪峰」。