ASML強敵來了！陸首款國產DUV曝光機 中芯測試爆驚喜

中芯國際拚技術突破，傳測試大陸首款國產DUV曝光機。（示意圖/達志影像/shutterstock）

大陸晶片大廠中芯國際近期正在測試一臺國產先進晶片生產設備，企圖突破美國對半導體產業的封鎖，挑戰西方在人工智慧（AI）晶片領域的技術優勢。

《金融時報》引述知情人士消息指出，中芯國際測試的設備爲上海新創公司宇量升研發的28奈米深紫外光（DUV）曝光機，並嘗試透過「多重圖案技術」（multi-patterning）製造更高階的7奈米晶片。初步試驗結果雖然相對樂觀，但目前仍不清楚該設備是否能真正投入量產。

一般而言，新型DUV設備至少需要一年的調整期，才能達到穩定性與良率，符合量產條件。據瞭解，此次測試的設備採用「浸沒式技術」，與荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）的作法類似。

報導分析，如果中芯國際能讓這款DUV曝光機順利進入量產，不僅有助於大陸半導體業擺脫對美國及西方技術的依賴，還可能提升先進AI晶片產能，減緩美國出口管制帶來的衝擊。伯恩斯坦（Bernstein）分析師Lin Qingyuan直言，若這一步走得通，將成爲大陸企業邁向研發更先進設備的重要基礎。

長期以來，中芯國際和其他大陸晶片製造商高度依賴艾司摩爾生產設備，但隨着美國祭出出口管制，並遊說荷蘭政府加入限制，大陸業者獲取新設備的機會大幅縮減。尤其最先進極紫外光（EUV）曝光機，已被明令禁止輸往大陸，因此陸廠無法取得能生產最高階晶片的關鍵工具。

目前，EUV設備仍是全球製造尖端晶片的唯一途徑，包括美國AI龍頭輝達在內的先進晶片皆仰賴該技術。隨著白宮管制持續收緊，大陸不得不加快發展自主設備，以期在AI晶片競賽中維持一定競爭力。