中國首臺「電子束光刻機」問世　「羲之」能有機會取代荷蘭EUV？

▲▼中國首臺商業電子束蝕刻工具「羲之」研發成功。（圖／翻攝自餘杭發佈／微博）

大陸中心／臺北報導

浙江大學餘杭量子研究院近日宣佈，中國首臺商業電子束蝕刻工具「羲之」正式投入市場應用。這臺精確度可達0.6納米的裝置，被業界視爲量子晶片研發的「救星」，標誌着中國在高端半導體設備領域邁出關鍵一步。

長期以來，受制於國際出口管制，中國科學技術大學、之江實驗室等無法順利採購電子束光刻機等高精度裝置，半導體研發面臨「卡脖子」困境。隨着「羲之」投入商用，這一局面有望被打破，目前已獲得多家科研單位的洽，期待在量子晶片、新型半導體等前沿領域發揮作用。

根據陸媒報導，「羲之」電子束光刻機外觀酷似大型鋼櫃，目前在浙江大學城西科創大走廊成果轉化基地進行測試，「羲之」正進行應用測試，電子顯示屏不斷閃爍實時參數。研發負責人形容，其如同「納米神筆」，能在頭髮絲上雕刻整座城市地圖。

報導指稱，該裝置以高能電子束在矽基晶片上「手寫」電路圖案，精確度達0.6納米、線寬8納米，性能可比肩國際主流產品，甚至在精度上直追目前主流的極紫外光刻機（EUV）的2-5納米水準。

不過，電子束光刻（EBL）技術也有其限制，與EUV光刻機相較，後者利用極紫外光可以大規模量產晶圓，一次性投影整片晶圓，每小時可處理上百片；而「羲之」每次加工一片晶圓需耗時數小時，效率遠低於EUV，但在精細度和設計自由度上，具有明顯優勢，使中國國內企業與研究機構能自主驗證5納米、3納米晶片設計，加速從實驗室到市場的技術轉化。

此外，「羲之」除了技術突破，同時也可對量子晶片的研發進行支援，標誌着「中國刻刀」能自主賦能晶片研發，加快從實驗室到市場的轉化，在成本上也具競爭力。其裝置價格較國際同類產品低約三成，且不需高價光罩，維護成本亦相對可控。