直指英特爾2大失誤！ ARM執行長全說了：難以超越臺積電

市場普遍認爲，英特爾已經難以超越臺積電。（圖／路透社）

在川普政府與輝達的大力投資後，關於英特爾能否取代臺積電的話題，在網路上引起了廣泛關注。然而，英國半導體和軟體設計公司安謀（ARM）執行長哈斯（Rene Haas）在知名播客節目《All In Podcast》中直言，英特爾過去犯下2項重大錯誤，如今已陷入「被時間懲罰」的困境，要想超越臺積電極爲困難。

哈斯強調，投資晶圓廠需要很長時間，定義架構和生態系統也需要很長時間，「如果你錯過了幾次機會，時間是非常、非常致命的，你會因此受到懲罰。而我認爲英特爾不幸在幾個領域受到了懲罰」。

據科技新聞網站Wccftech報導，哈斯點出了英特爾錯失的2個關鍵機會。哈斯指出，英特爾犯下的錯誤之一就是過度專注於消費性CPU市場，錯失了行動裝置晶片的黃金週期。儘管英特爾曾試圖以「Atom」低功耗SoC系列切入行動市場，但該系列晶片在性能與功耗平衡上未能達到蘋果的高標準要求。最終英特爾沒有決定繼續尋求合作，無緣成爲iPhone的供應商。前執行長歐德寧（Paul Otellini）也將此視爲公司犯下的最大錯誤之一。

哈斯表示，英特爾在行動裝置市場幾乎完全缺席，而一旦在晶片領域落後，要追趕就非常困難，「因爲週期會將你壓垮。臺積電如今擁有世界上最好的晶圓廠。蘋果、輝達、超微等領先企業都在臺積電生產晶片」。

英特爾的第2個錯誤則是採用極紫外光（EUV）技術上的遲緩。哈斯批評，英特爾在10年前並未如臺積電一樣積極投入EUV，結果讓臺積電得以圍繞此技術建立產能，進而取得領先。臺積電自2015年起便積極佈局EUV技術，而英特爾直到2021年纔在Intel 4製程中導入，使其7奈米制程量產時間比臺積電的5奈米晚了近2年。

據Wccftech報導，哈斯還提到了另一個重要因素，也就是西方與臺灣在「製造業文化」上的差異。哈斯直言，「我們沒有培養出一整代人，把製造業看成是既能賺錢，又具高度聲望的工作。他們往往認爲，『這是個藍領工作，我纔不想幹』。但在臺灣並非如此。在臺灣，如果你說你在臺積電工作，或是正爲進入臺積電而努力，這是一件非常有聲望的事情」。