羅唯仁跳槽 對英特爾助益不大

臺積電前資深副總經理羅唯仁。（總統府提供）

臺積電前技術研發暨企業策略發展資深副總經理羅唯仁離職時，傳出可能將晶片先進製程技術帶走，並回鍋老東家英特爾。產業雜誌《Tom’s Hardware》認爲，兩家公司先進製程依賴的技術南轅北轍，羅唯仁帶槍投靠並不會爲英特爾工程師帶來多大助益，但可能會讓臺積電文化流入英特爾；另英媒《國際商業時報》分析，本案恐衝擊全球晶片供應、定價和技術領先地位等。

今年7月退休的羅唯仁被爆料在退休前利用自身高階主管的職權，要求團隊成員向他進行技術簡報，並帶走有關2奈米、A16、A14製程等多達20多箱影印、手寫資料。隨後羅在10月底轉赴英特爾任職，掌管研發到落地量產前的先進設備暨模組發展領域。

各界震驚這起竊密案同時，也關切羅唯仁此舉是否真能幫助英特爾製造技術？但《Tom’s Hardware》認爲不太可能，因爲英特爾的18A晶片已投入大規模生產，且只有英特爾工程師能對其調校，以降低缺陷密度，進而提升關鍵尺寸均勻性。

文章指出，18A與臺積電的2奈米、A16等存在許多面向的差異，例如18A使用圖案成形（pattern shaping）技術，但2奈米制程並不使用此技術；A16製程使用超級電軌（SPR）晶背供電技術，直接將電源供給每個電晶體的源極與汲極；而18A則採用其首創的PowerVia背面供電技術。這些差異使羅唯仁在臺積電的經驗，對英特爾的工程師而言幾乎沒有價值。

再比較兩家公司製程節點（Node）差異，英特爾的14A和臺積電的A14更是天差地遠，前者計劃在其關鍵層使用高數值孔徑極紫外光光刻工具；後者則依賴低數值孔徑極紫外光光刻工具與多重曝光技術。

雖然臺積電製程在技術層面無法提供英特爾顯著幫助，文章也指出，相關資料對英特爾的競爭力分析團隊卻很有價值，且身爲臺積電最先進技術開發部門的主管，他可能爲英特爾製程開發、製程整合與製造組織帶來寶貴的臺積電文化。

《國際商業時報》則認爲，此案引起外界對半導體產業人員流動與企業從對手公司挖角人才時必須採取保障措施的關注。報導警告，本案將嚴重衝擊英特爾與臺積電，競爭對手也可能瞭解臺積電專有技術，進而加速自身開發進度。其不僅影響單一公司，更會影響全球晶片供應、定價、技術領導地位等，同時凸顯健全法律框架與保護關鍵產業機密合規措施的重要性。