High-NA EUV 設備太貴？臺積電主管看A14製程不急著導入

臺積電（2330）歐洲技術論壇27日登場，期間臺積電業務開發及全球業務的資深副總經理暨副共同營運長張曉強接受媒體訪問A14製程後續是否導入高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV） 微影設備時提及，臺積電還沒看到非用不可的理由。

依據路透社報導，張曉強說，「A14就算不用High-NA，效能也已相當強大。因此我們的技術團隊會繼續開發微縮效益，設法延展Low-NA EUV微影設備的壽命。只要團隊能繼續找到解方，我們顯然沒有使用High-NA的必要」。

張曉強先前就該設備議題在技術論壇也已提到，臺積電2024年會擁有高數值孔徑EUV工具但還不準備運用新工具來生產，主要使用目的是跟夥伴進行研究。

TechTechPotato YouTube去年上傳臺積電資深副總暨副共同營運長張曉強29分鐘、近半小時的訪談，期間張曉強迴應主持人提問關於高數值孔徑極紫外光微影設備相關議題時也提到，相信臺積電研發團隊會做出最好決定，在合適的技術節點採用。

張曉強當時迴應說，「相信臺積電研發團隊將繼續專注於新的EUV應用，這明顯包含高數值孔徑極紫外光設備，我們將選擇合適的技術節點來使用，畢竟需要考慮很多因素」。

張曉強也說，「顯然存在可擴展性因素，還有製造成本因素，所以我相信我們的研發團隊會做出最好的決定，在何時何處選擇下一代EUV來應用」。

此外，法人先前分析，ASML下世代EUV報價近4億歐元（相當4.5億美元），相較目前機種1.5億歐元高出許多，目前系統尚未到應用成熟階段。

此外法人分析，從ASML財報展望來看，先前預估第2季新接訂單金額從去年第4季的70.88億歐元 (EUV 共30億歐元 )下滑至39.36億歐元（EUV共12億歐元），季減少44.47%，年增加9.00%，主要是因爲市場不確定性增加，臺積電以外的客戶改變2025年的資本支出。

法人也分析，從晶圓代工業務的競爭來看，大部分先進製程訂單集中在臺積電，至於Intel和 Samsung等晶圓廠延後建設計劃，則使設備需求延後，特別是EUV。