光程研創和採鈺 推出新世代矽基超穎透鏡

光程研創和採鈺推出新世代矽基超穎透鏡。圖／光程研創提供

以全球獨家鍺矽 （GeSi） 光子技術聞名，基於互補金屬氧化物半導體 （CMOS）製程之短波紅外光（SWIR）光感測、光成像與光通訊技術領導者光程研創（Artilux），於今（5）日攜手採鈺科技（TWSE：6789）一同發表最新超穎透鏡（Metalens）技術。此次發表的超穎透鏡新技術有別於傳統曲面透鏡，採用全平面、超薄化的光學元件設計，不僅能精確控制光波，更可直接於12吋矽基板上製造超高精度奈米結構。光程研創已成功整合其核心鍺矽技術及超穎透鏡技術於單片矽晶圓上，大幅提升光學系統效能及大規模量產的效率與良率，並可廣泛應用於SWIR光感測、光成像、光通訊和人工智慧等商業領域。

伴隨人工智慧、機器人、矽光子等熱潮，基於矽晶片的光感測、光成像及光通訊技術將扮演推動這些產業發展的關鍵要角，因此，內建影像感測與生理訊號感測、支援AI判斷與應用等功能的手機和穿戴設備裝置未來將更爲普及。此外，在AI資料中心應用中，矽光子能提供高效率之光通訊傳輸，亦是未來AI 模型訓練與推理中不可或缺的一環。隨着硬體裝置設計日益輕巧化的趨勢，矽基光學技術中的「超穎透鏡技術」則將引領和加速以上應用情境的部署。

光程研創共同創辦人暨技術長Neil Na表示，「光程研創在半導體技術之革新已享譽國際，這次我們很高興再度分享自主開發的超穎表面技術，並結合採鈺科技在12吋晶圓上的領先光學制程，成功打造超薄光學元件以精確控制光波，可拓展至SWIR光感測、光成像、光通訊和人工智慧等多元商業應用。我們相信這項技術不僅在光學領域有突破性的價值，更將加速驅動新世代光學技術的發展和實現。」

採鈺研究發展組織副總謝錦全說：「採鈺科技一直在全球CMOS影像與光感測器產業中關注發展趨勢，同時以半導體制程優勢和開發合作關鍵技術來持續提高產能和產值。我們很開心看到業務夥伴光程研創應用採鈺科技的矽基超穎透鏡製程，幫助提升光學元件整合，一起突破傳統設計和製程在封裝尺寸（Form factor）的侷限，期待雙方的合作將爲光學感測產業激發更創新的應用，推動超穎透鏡技術更普及。」