高盛：陸微影設備技術 落後艾司摩爾20年

高盛報告顯示，大陸微影設備產業很可能落後荷蘭半導體裝置製造商艾司摩爾（ＡＳＭＬ）廿年。高盛指出，大陸微影設備製造商目前還停留在六十五奈米制程，這些公司短期內不太可能追趕上西方。

科技媒體Wccftech報導，微影技術是阻止大陸製造高端晶片的唯一瓶頸。最先進的微影設備是由ＡＳＭＬ製造，由於其設備需要用到來源於美國的零組件，所以美國政府能夠限制其對大陸的銷售。

高盛表示，大陸科技巨頭華爲因與軍方的關聯，被美國政府制裁，禁止從臺積電採購晶片。華爲不得不依賴中芯國際滿足其晶片需求，而美國進一步限制中芯國際等大陸晶圓代工業者採購極紫外光（ＥＵＶ）微影設備，因此大陸先進製程的晶片製造水準目前仍停留在七奈米級別。

高盛在報告中指出，即便中芯國際能生產出七奈米制程的晶片，但是這些七奈米晶片極有可能還是通過ＡＳＭＬ較舊的深紫外光（ＤＵＶ）微影設備來生產製造，實際上，大陸目前尚不具備製造這類先進微影設備的能力，因爲這些設備的核心零組件主要來自全球供應商，尤其是美國和歐洲的供應商。

高盛強調，ＡＳＭＬ爲了從六十五奈米技術躍升至低於三奈米的能力，經過了廿年的時間，並投入高達四百億美元的研發與資本支出。

考量大陸目前技術與全球供應鏈的複雜依賴性，大陸微影設備廠商，在短期內趕上西方先進技術的可能性較小。

ＡＳＭＬ執行長Christophe Fouquet去年接受媒體專訪時曾表示，由於美國對大陸禁止出口ＥＵＶ微影設備，與英特爾、臺積電和三星等行業巨頭相比，大陸晶片技術將落後西方十到十五年。