創控：廠務 AMC 監控點設置密度增 新品效益發酵

半導體氣體分子污染物（AMC）監控設備廠創控科技董事長王禮鵬。記者尹慧中攝影

創控（6909）提到，創控核心產品高階氣體分析儀廣泛應用於全球主要半導體廠區的奈米制程監測，隨着半導體制程持續微縮，廠務端AMC監控點的設置密度隨之增加，機臺設備的銷售及後續維運及服務皆呈現顯著成長，加上今年再添新客戶，助長創控在廠務端的機臺設備出貨力道。另外FMS 2000、MiTAP M3兩項新產品在今年發酵，成爲創控營收大幅成長的主因之一。

創控日前公告5月營收2,705萬元，較去年同期成長9.26％；累計1-5月營收1.8億元，年增69.28％，續創歷年同期新高。受惠於半導體先進製程對AMC監控的剛性需求，創控接單熱絡並加速出貨，累計1-5月營收成長率遠高於歷年同期，在新產品、新客戶、新市場三箭齊發下，公司營運規模進入擴張階段，推升營收保持高成長。

由於3奈米以下製程對潔淨度要求更爲嚴苛，AMC的監測引領防治及去除方針，更是半導體廠做好AMC氣體微污染管理的重要手段。AMC監測分析的區域，從大範圍的廠房周界、煙囪排氣、廠房迴風系統等廠務環境，到晶圓接觸的倉儲／運輸系統、晶圓運輸載具、晶圓接觸的機臺設備等微環境，都需要嚴密的監控。

因應半導體微環境的AMC監控以及擴大監測物種需求，創控新產品FMS 2000，針對晶圓盒（FOUP）內部微環境常見污染物進行即時監測；MiTAP M3氣體分析儀，可監測酸性與鹼性氣體，進一步強化整體AMC解決方案的深度與廣度。FMS 2000、MiTAP M3兩項新產品在今年發酵，成爲創控營收大幅成長的主因之一。

創控提到，持續針對客戶痛點開發AMC解決方案，保持公司在AMC監控的領先地位，在進軍微環境開創新市場的同時，創控也爲半導體制程節點持續微縮作佈局，因應2奈米制程監控潔淨門檻再提升，AMC檢測濃度、物種、速度等都需要再升級，創控已提前佈局未來需求，做好迎接新市場的準備。