不讓臺積專美 SK海力士也考慮採用ASML的High NA EUV設備

SK海力士技術長表示，正考慮使用艾司摩爾（ASML）最新的High-NA EUV微影系統設備，來生產下一代記憶體晶片。 路透

南韓晶片大廠SK海力士14日表示，正考慮使用艾司摩爾（ASML）造價4億美元的高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影系統設備，來生產下一代記憶體晶片。

路透報導，SK海力士技術長Seon-yong Cha 14日在荷蘭舉行的艾司摩爾投資人日上透過預錄影片表示，正考慮引進這臺全球最昂貴的晶片製造設備。

雖然這臺設備造價不斐，但據傳臺積電和英特爾等公司都已下單。外媒本月稍早引述消息人士報導，臺積電訂購的High-NA EUV設備首批機件，將在年底前運抵臺灣。英特爾則在幾個月前就已收到這臺設備。