SK海力士創業界之先以ASML的High NA EUV設備量產

SK海力士率業界之先正式導入High NA EUV量產。路透

SK海力士發佈新聞稿說，位於南韓利川的M16晶圓廠引進高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）微影設備的組裝，率業界之先正式導入量產。

SK海力士引進艾司摩爾（ASML）的EXE:5200B機型，計劃簡化現行EUV製程，加速新一代記憶體開發，以提升產品效能和成本競爭力。