ASML申請產生光子晶體光纖方法專利，製造出毛細管壁厚度小於200 nm的光纖

金融界2025年6月25日消息，國家知識產權局信息顯示，ASML荷蘭有限公司;馬克斯-普朗克科學促進協會申請一項名爲“產生光子晶體光纖的方法”的專利，公開號CN120202170A，申請日期爲2023年10月。

專利摘要顯示，披露了一種製造光纖的方法，所述光纖包括外部護套和限定中空芯部的多個毛細管。所述方法包括：獲得光纖製造中間產品；和從所述光纖製造中間產品拉伸光纖。所述拉伸使得經拉伸的光纖中的每個毛細管的光纖級毛細管壁厚度小於200 nm，並且在所述拉伸期間施加的拉力大於20 MPa。

本文源自：金融界

作者：情報員