ASML申請製造光纖中間產品和生產光子晶體光纖的方法專利，所拉制的光纖中的每個毛細管的壁厚度小於200nm

金融界2025年6月25日消息，國家知識產權局信息顯示，ASML荷蘭有限公司;馬克斯-普朗克科學促進協會申請一項名爲“製造光纖中間產品和生產光子晶體光纖的方法”的專利，公開號CN120202169A，申請日期爲2023年10月。

專利摘要顯示，公開了一種製造光纖的方法和製造光纖中間產品。該製造光纖中間產品包括：外護套；以及多個毛細管，其中所述毛細管包括大於0.90的毛細管內徑與毛細管外徑的中間級毛細管直徑比率，並且其中所述中間級的每個所述毛細管的標稱壁厚度大於1500nm。該中間產品可以被拉制成光纖，其中所拉制的光纖中的每個毛細管的壁厚度小於200nm。

本文源自：金融界

作者：情報員