力旺衝先進製程 3奈米大有斬獲

力旺2025年近三季營收表現

先進製程邁入2奈米，國際IP（矽智財）大廠新思科技（Synopsys）表示，旗下最新LPDDR6矽智財產品已於臺積電N2P製程成功完成設計上線（silicon bring-up）。臺廠矽智財業者力旺積極在先進製程也與臺積電緊密合作，據悉力旺近一年於3奈米制程大有斬獲，簽約數量達20顆，PUF晶片安全IP更拿下重要國防訂單，爲第四季營運表現添柴火。

IP爲晶片設計中，經過驗證且可重複使用的標準化技術模組或設計元件。新思科技LPDDR6 IP於臺積電N2P上完成首次投片，產品組合包含USB及MIPI之傳輸介面，以滿足客戶日益漸增的行動、邊緣AI和HPC之運算需求；新思同時強調，與臺積電緊密合作，協助客戶順利過渡到埃（Angstrom）製程節點。

相關業者透露，IP隨着系統單晶片技術複雜度日益成長，創造經驗證的第三方IP核心需求，以簡化多功能晶片的設計。臺廠力旺、M31等業者積極跨入，如力旺NeoFuse OTP解決方案，於今年6月通過臺積電N3P先進製程完成可靠度驗證。