江豐電子：高純金屬濺射靶材及半導體精密零部件產能利用率良好

江豐電子8月23日在互動平臺表示，目前公司高純金屬濺射靶材及半導體精密零部件的產能利用率良好。本次定增募集資金擬主要用於年產5,100個集成電路設備用靜電吸盤產業化項目和年產12，300個超大規模集成電路用超高純金屬濺射靶材產業化項目等。