恩萊特科技 OPTIC 2025 展出矽光子光電整合流程 串聯國際大廠 PDK 資源

恩萊特科技參與 OPTIC 2025，持續深化產學界互動。圖爲中華民國光電學會副秘書長許晉瑋（右），與恩萊特科技業務總監門傑（左）針對矽光子設計平臺發展趨勢進行交流。 恩萊特科技／提供

隨着矽光子技術成爲 AI 與高速運算的關鍵解方，如何從實驗室研發順利跨越到晶圓廠量產，成爲產業關注焦點。恩萊特科技日前參與臺灣光電領域年度盛會「OPTIC 2025」，現場展出合作伙伴之光半導體（Latitude Design Systems）的「PIC Studio」光電整合設計平臺，爲臺灣產學研界提供一套能精準對接國際大廠製程、加速產品上市的設計解決方案。

■聚焦量產痛點，PIC Studio 實現元件到系統無縫整合

過去矽光子開發流程中，常面臨工具分散、格式不相容的挑戰，恩萊特科技此次展出的PIC Studio 核心優勢在於建立統一的設計流程。該平臺成功將元件設計、光路繪製、佈局以及光電系統級模擬整合在單一環境中。此外，該平臺可直接支援 Tower Semiconductor、SilTerra 等全球主要晶圓代工廠製程設計套件（PDK）。透過在設計階段即導入精準的製程參數與封裝規則，確保研發成果能更快速、精準對接量產需求 。

■鎖定 AI 運算需求，強化光電協同模擬與自動化佈局

針對新一代光學神經網路與可程式化光電子晶片的複雜需求，PIC Studio 在電子-光子協同模擬的強大能力。透過 pSim Plus 模組，平臺能打破光電界線，從驅動電路到光纖傳輸執行端到端的精準預測 ；搭配 PhotoCAD 程式碼驅動佈局功能，僅需定義參數即可快速生成如陣列波導光柵（AWG）等大型矩陣結構，不僅大幅提升設計效率，更讓佈局修改具備靈活性，爲矽光子晶片開發提供強大後盾。