大陸28奈米曝光機廠 大秀技術

成立僅四年的深圳晶片設備商新凱來。圖爲新凱來測試機。（取自新凱來官網） 林宸誼

受美國技術封鎖影響，大陸無法取得艾司摩爾（ASML）最先進的極紫外光（EUV）設備。成立僅四年的深圳晶片設備商新凱來，日前首度公開展示28奈米級300毫米晶圓曝光技術，然而現場並未展示實體設備，只有模型，外界關注何時可以投入生產，甚至進而擾動全球產業鏈。

南華早報、Tom'shardware報導，一家成立僅四年、深圳市政府支持的晶片設備商新凱來，在一年一度的行業參與者聚會Semicon China上，展出的設備清單涵蓋原子層沉積（ALD）、化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）、蝕刻（ETCH）、退火等關鍵製程。然而現場卻沒有展出實機，僅在各個展示螢幕中說明發展路線與技術，以及號稱是新開發產品的模型。

中華經濟研究院第二研究所暨日本中心副主任江泰槿指出，先進製程晶片製造，需協同微影、材料、設計工具等多環節突破，「大陸發展像ALD的這些技術，很可能會影響到非半導體的供應鏈，臺灣也要關注這些技術可能帶來的影響。

此外大陸也許現在製成技術並不純熟，但可利用市場的優勢，進而達到技術提升的目標。」

但新凱來表示，已成功研發出適用於 300 毫米晶圓的 28奈米浸潤式曝光系統，光源波長、套刻精度等核心技術參數達到國際同類產品水準。

半導體產業分析師王磊表示，28 奈米是目前成熟製程與先進製程的分水嶺，也是大陸半導體設備廠商必須攻克的關卡。新凱來的技術突破，代表大陸國產設備在關鍵製程上，實現了從無到有的跨越。

王磊指出，值得注意的是，該公司還在展會上推出了適配功率半導體的電氣性能測試、良率檢測等配套設備，顯示在細分領域的精準佈局。

新凱來成立之初就在北京、上海、西安等地設立研發中心，並在全球招募頂尖技術人才。該公司核心團隊成員多來自荷蘭艾司摩爾、美國應用材料等國際巨頭，涵蓋曝光、蝕刻、檢測等關鍵領域的資深工程師。