本源量子申請掩膜及其製備方法等相關專利 極大提高製造約瑟夫森結的效率

金融界2025年6月7日消息，國家知識產權局信息顯示，本源量子計算科技（合肥）股份有限公司申請一項名爲“掩膜及其製備方法、應用、約瑟夫森結及其製備方法”的專利，公開號CN120112161A，申請日期爲2023年12月。

專利摘要顯示，本發明公開了一種掩膜及其製備方法、應用、約瑟夫森結及其製備方法。該掩膜包括設置在襯底表面、具有貫通的第一窗口的第一層，形成於第一層上、設置有貫通且與第一窗口連通的第二窗口的第二層和形成於第二層上、設置有貫通且與第二窗口連通的預設圖形集合的第三層。該預設圖形集合包括多個窗口圖形；每個窗口圖形限定於襯底的第一方向投影區域僅與窗口圖形限定於襯底的第二方向投影區域存在重疊。基於此，利用該掩膜進行約瑟夫森結制造時，通過沿第一方向和第二方向分別對掩膜實施斜蒸發，可實現每個窗口圖形在襯底第二超導層僅與自身在襯底的第一超導層上的勢壘層存在重疊，在重疊區域形成約瑟夫森結，極大提高製造約瑟夫森結的效率。

天眼查資料顯示，本源量子計算科技（合肥）股份有限公司，成立於2017年，位於合肥市，是一家以從事軟件和信息技術服務業爲主的企業。企業註冊資本3000.0008萬人民幣。通過天眼查大數據分析，本源量子計算科技（合肥）股份有限公司共對外投資了10家企業，參與招投標項目99次，財產線索方面有商標信息670條，專利信息1840條，此外企業還擁有行政許可6個。

本文源自：金融界

作者：情報員