三星顯示申請掩模及其製造方法專利，公開一種掩模及其製造方法

金融界2025年6月10日消息，國家知識產權局信息顯示，三星顯示有限公司申請一項名爲“掩模及其製造方法”的專利，公開號CN120119208A，申請日期爲2024年11月。

專利摘要顯示，公開一種掩模及其製造方法。掩模包括：支撐層，定義單元區域及與單元區域相鄰的周邊區域，並且定義在平面上與單元區域重疊的第一開口；以及半導體層，佈置於支撐層上，對在平面上與第一開口重疊的多個第二開口以及從與支撐層相鄰的一表面凹陷的多個溝槽分別進行定義。

本文源自：金融界

作者：情報員