本源量子申請刻蝕鋁膜的方法以及超導量子芯片專利，降低成本、提高安全性的同時保持較高的鋁膜品質

金融界2025年8月22日消息，國家知識產權局信息顯示，本源量子計算科技（合肥）股份有限公司申請一項名爲“刻蝕鋁膜的方法以及超導量子芯片”的專利，公開號CN120529820A，申請日期爲2024年02月。

專利摘要顯示，本發明公開了一種刻蝕鋁膜的方法以及超導量子芯片。刻蝕鋁膜的方法，包括：提供表面形成有鋁膜的襯底；在鋁膜上確定目標圖形，對目標圖形以外的鋁膜進行IBE刻蝕，形成與目標圖形對應的目標結構，目標結構的側壁與襯底形成預設夾角；採用鋁腐蝕液對目標結構的側壁進行溼法刻蝕，以增大預設夾角。超導量子芯片包括諧振腔，諧振腔採用刻蝕鋁膜的方法得到。由於IBE刻蝕工藝和溼法刻蝕工藝成本低，且無需使用危險氣體，從而能夠在降低成本、提高安全性的同時保持較高的鋁膜品質。

天眼查資料顯示，本源量子計算科技（合肥）股份有限公司，成立於2017年，位於合肥市，是一家以從事軟件和信息技術服務業爲主的企業。企業註冊資本3000.0008萬人民幣。通過天眼查大數據分析，本源量子計算科技（合肥）股份有限公司共對外投資了11家企業，參與招投標項目103次，財產線索方面有商標信息669條，專利信息1855條，此外企業還擁有行政許可6個。

本文源自：金融界

作者：情報員