本源量子申請改善多個量子器件線寬均勻性方法及應用專利，使得製造量子器件的線寬一致性更高、更均勻

金融界2025年7月26日消息，國家知識產權局信息顯示，本源量子計算科技（合肥）股份有限公司申請一項名爲“一種改善多個量子器件的線寬均勻性的方法及應用”的專利，公開號CN120379521A，申請日期爲2024年01月。

專利摘要顯示，本申請公開了一種改善多個量子器件的線寬均勻性的方法及應用，屬於量子芯片製造領域。製造具有改善的線寬均勻性的多個量子器件的方法，包括：提供在表面形成具有模板層的襯底，其中模板層具有沉積窗口；以及使用斜蒸發工藝，通過沉積窗口在襯底表面形成鍍膜件；其中沉積窗口具有關聯於目標線寬的理論設計槽寬以及在製造過程中形成的工藝槽寬，至少部分的量子器件的工藝槽寬偏離對應的理論設計槽寬。通過上述方式可以使得製造量子器件的線寬一致性更高、更均勻，從而能夠改善其關聯於線寬一致性的性能或參數。

天眼查資料顯示，本源量子計算科技（合肥）股份有限公司，成立於2017年，位於合肥市，是一家以從事軟件和信息技術服務業爲主的企業。企業註冊資本3000.0008萬人民幣。通過天眼查大數據分析，本源量子計算科技（合肥）股份有限公司共對外投資了11家企業，參與招投標項目100次，財產線索方面有商標信息669條，專利信息1835條，此外企業還擁有行政許可6個。

本文源自：金融界

作者：情報員