同方威視申請三維背散射模型處理裝置和方法專利，提供一種三維背散射模型處理裝置

金融界2025年6月11日消息，國家知識產權局信息顯示，同方威視技術股份有限公司申請一項名爲“三維背散射模型處理裝置和三維背散射模型處理方法”的專利，公開號CN120122229A，申請日期爲2023年12月。

專利摘要顯示，提供了一種三維背散射模型處理裝置，可以應用於圖像成像領域、安檢領域或其他技術領域。該三維背散射模型處理裝置包括：背散射成像設備，用於獲得被檢對象的M張二維背散射圖像，M張所述二維背散射圖像與所述被檢對象的M個區域一一對應，M爲大於或等於1的整數，當M大於或等於2時，任兩個所述區域的範圍不相同；三維成像設備，用於對所述被檢對象進行三維成像，獲得所述被檢對象的三維模型，所述三維模型的表面具有M個所述區域；處理器，用於將M張所述二維背散射圖像覆蓋於所述三維模型表面的M個所述區域，得到三維背散射模型。還提供了一種三維背散射模型處理方法。

天眼查資料顯示，同方威視技術股份有限公司，成立於2000年，位於北京市，是一家以從事電氣機械和器材製造業爲主的企業。企業註冊資本18500萬人民幣。通過天眼查大數據分析，同方威視技術股份有限公司共對外投資了13家企業，參與招投標項目2583次，財產線索方面有商標信息294條，專利信息3930條，此外企業還擁有行政許可46個。

本文源自：金融界

作者：情報員