臺積電2nm芯片工藝突遭泄密

8月6日，臺積電2nm工藝突然泄密的話題衝上熱搜。

8月5日，臺積電發現其先進製程芯片製造技術可能存在商業機密泄露，並已對被認定負有責任的員工採取行動。多位知情人士稱，其已開除多名外泄2納米機密員工。

臺積電指出，近期在常規的監控情況下偵測到違規行爲，經內部調查發現涉及商業秘密泄漏情況。由於公司建立全面及完備的監控機制，得以及早發現，已對涉事違規人員進行嚴厲懲處，並採取相關法律行動，此案已進入司法程序。

臺積電在聲明中表示：“TSMC對任何破壞商業機密保護或損害公司利益的行爲採取零容忍政策。此類違規行爲將被嚴格處理，並依法追究到底。我們始終致力於保護公司的核心競爭力以及全體員工的共同利益。”

經調查，此次事件約有10人涉案。其中1人爲跳槽至東京電子的臺積電前員工，已被收押。他與過去在臺積電工作期間認識的先進製程研發人員取得聯繫，從而獲得臺積電商業秘密。

有6人爲研發中心人員，因在職期間通過網絡傳送2納米相關資料，已被臺積電調離原單位。

另3人爲2納米試產人員，他們在居家遠程工作期間，違規連接內網，利用手機拍攝大量資料，至少將400多張製程整合技術照泄露給東京電子員工，證據確鑿，臺積電對他們直接開除並移交司法部門。檢方訊問後向智財及商業法院申請羈押獲批准。

來源：每日經濟新聞