美限制臺積在陸產能 恐壯大對手

美國意圖封堵成熟製程供應戰略，可能促使中國晶圓代工自我壯大，增加其營運韌性。美聯社

美國商務部宣佈，自今年底起撤銷臺積電（2330）南京廠「經驗證終端用戶」授權（VEU）。過去臺積電憑藉此資格，相對快速引進美國設備與零組件，未來所有相關出口必須逐案申請。這項措施被外界視爲美國在半導體管制戰線上的新升級，表面是限制中國獲取成熟製程產能，然而實際效果卻可能出乎意料：以撤銷VEU授權方式限制臺積電、三星等外資在中國境內成熟製程生產規模，最終卻替中國本土晶圓廠創造更大市場空間，此舉恐怕並不符合美國利益。

成熟製程雖然不像7奈米以下先進製程直接決定高效能運算與國防應用，但其市場規模與應用範圍廣泛，涵蓋車用電子、工業控制、消費性電子與通訊設備等領域。美國如今以安全爲由切斷外資廠在中國升級渠道，結果是讓中國本土廠商如中芯國際、華虹半導體承接轉單需求。這些需求不僅提升產能利用率，更加速中國廠商在生產管理與客戶服務上的經驗累積。換言之，美國意圖封堵成熟製程供應戰略，可能促使中國晶圓代工自我壯大，增加其營運韌性。

以中芯國際爲例，雖然已具備14奈米量產能力，但真正支撐營收與產能的仍是28奈米以上成熟製程。隨着臺積電南京廠受制於VEU授權取消，許多中國客戶出於供應安全考量，勢必將訂單轉向本土廠商。這種「被迫轉單」現象短期內就能帶來實質收入，更關鍵的是形成規模經濟，讓本土代工廠有更多資金與數據投入製程優化。成熟製程一旦由中國廠商壟斷內需，長期累積的效果，將比美國想像中更深遠。

同樣值得注意的是，這項措施還爲中國本土設備業者提供了更快導入的舞臺。過去，美國、日本與歐洲設備商長期主導蝕刻、沉積與研磨等關鍵環節，如今外資廠受限，本土晶圓廠必須更多依賴國產工具。例如中微公司深反應離子蝕刻設備，原本主要應用於功率半導體與封裝，如今可能被中芯導入成熟製程產線；華海清科的化學機械研磨（CMP）設備，過去難以撼動美日供應商地位，未來卻有望透過中芯與華虹批量採用，快速取得量產驗證。這些實例說明，美國撤銷VEU不僅未能阻止中國設備替代，反而成爲加速本土化的催化劑。

當外資廠在中國的投資與產能受限，北京政府與地方資金將更集中支持國產廠商。過去中國企業在市場行爲上考量成本與效率，對外資代工有所依賴。未來若連臺積電、三星在中國的成熟製程都被箝制，國內市場灰色安全帶徹底消失，國有資本與產業基金勢必將資源導向中芯、華虹以及國產設備與材料供應商，進而將強化中國整體供應鏈的抗風險能力。

美國的戰略邏輯是試圖讓中國在先進製程止步不前。但這個政策削弱了在華外資晶圓廠作爲「制衡力量」角色，讓中國本土產業在成熟製程上更快取得主導權。換言之，美國表面上是要削弱中國產業能力，實際卻是讓中國成熟製程自給能力愈來愈完整。

臺灣與韓國企業也必須深思此一變化。臺積電南京廠未來定位受到重大挑戰，短期或需縮減投資，長期則恐失去中國市場的一部分需求。三星在中國的成熟產能也可能面臨類似困境。當外資企業在中國被政策限制無法自由升級，反而讓中芯國際與華虹等有機會壟斷內需市場。

以撤銷VEU授權來限制外資成熟製程產能，美國的初衷是封堵中國技術進展，但副作用卻是創造更大的市場縫隙，讓中芯國際等本土廠商快速壯大，讓中微蝕刻設備、華海清科CMP等國產工具加速導入。此舉短期內或許能延緩外資在大陸產能擴張，但長期卻不利於美國利益，因爲中國將在成熟製程自給上變得更堅韌。當政策的執行結果與原始戰略目標背道而馳，美國是否需要重新審視其半導體管制框架，值得深思。