陸廠狙擊了！美半導體龍頭遭控「偷晶圓機密」 細節驚人

大陸半導體設備龍頭控告美商應材竊取機密。（示意圖/達志影像/shutterstock）

中美科技戰升級！中國大陸半導體設備廠屹唐半導體近日向北京知識產權法院提告，指控美國應用材料公司（Applied Materials，簡稱應材）非法竊取其等離子體源與晶圓表面處理的核心技術，並在中國境內透過專利申請方式公開相關內容，要求賠償人民幣 9999 萬元（約新臺幣 4.1 億元）。

綜合陸媒報導，屹唐半導體指出，應材曾聘用兩名曾在屹唐全資子公司 Mattson Technology（MTI）任職的員工。這兩人熟知等離子體產生及處理方法的核心技術，並精通相關設備結構與技術流程。在MTI任職期間，他們均已簽署保密協定，承諾對涉案技術秘密等資訊履行嚴格的保密義務。

屹唐表示，有證據顯示，應材在兩人入職後，即向中國國家智慧財產權局提交一份發明專利申請，而主要發明人正是這兩名員工。該專利內容披露了屹唐與MTI共同擁有的技術機密。

屹唐強調，利用高濃度且穩定均勻的等離子體進行晶圓表面處理，是公司最重要的技術之一，廣泛應用於幹法去膠、幹法蝕刻、表面處理及改性等半導體加工設備中。公司在該領域具備領先的原創技術能力，並持有相關商業秘密。

屹唐認爲，應材不僅非法獲取並使用其等離子體源與晶圓表面處理的核心技術，還在中國大陸境內申請專利、公開技術細節，並將專利申請權據爲己有，其行爲已構成侵犯商業秘密。因此，屹唐向北京知識產權法院提起訴訟，索賠金額爲9999萬元人民幣。