拉普拉斯獲得實用新型專利授權：“沉積設備”

證券之星消息，根據天眼查APP數據顯示拉普拉斯（688726）新獲得一項實用新型專利授權，專利名爲“沉積設備”，專利申請號爲CN202422064086.6，授權日爲2025年5月30日。

專利摘要：本申請涉及光伏和半導體技術領域，尤其涉及一種沉積設備，解決了沉積設備無法對腔體的內壁進行鍍膜的問題。該沉積設備被配置爲對腔體的內壁進行鍍膜，內壁圍合形成腔室，腔體具有連通腔室與外界的至少一個開口。該沉積設備包括至少一個密封件、至少一個靶臺和至少一個激光發射組件。密封件用於密封開口，以使腔室形成密閉腔室。靶臺用於承載靶材，靶臺能夠放入腔室。激光發射組件向靶材發出激光，使靶材生成等離子羽輝，等離子羽輝能夠沉積於腔體的內壁，以對腔體的內壁進行鍍膜。

今年以來拉普拉斯新獲得專利授權82個。結合公司2024年年報財務數據，2024年公司在研發方面投入了2.96億元，同比增27.5%。

數據來源：天眼查APP

以上內容爲證券之星據公開信息整理，由AI算法生成（網信算備310104345710301240019號），不構成投資建議。