分子尼奧攜手國際 推進NIL在量子產業的應用

分子尼奧(Quantum NIL)積極尋求奈米壓印(Nano Imprint Lithography , NIL)應用領域的合作伙伴，爲深化國際合作與技術整合，執行長林仲相近期赴美國波士頓進行交流。行程中拜會了哈佛大學George Whitesides教授及麻省理工學院Robert Langer教授。

Whitesides教授是軟微影技術(Soft Lithography)開創人，奈米材料、微流道力學及糖化學合成領域的權威，及全球奈米技術(Nanotechnology)先驅，曾是中央研究院院長翁啓惠的指導教授。而Langer教授是全球藥物傳遞與生物組織再生工程的重量級權威、新冠疫苗公司Moderna 的創辦人之一。林仲相表示，將持續與兩位國際級大師交流，結合分子尼奧在奈米壓印製程的專業能力，共同開發新一代高精度生物晶片製程解決方案。

林仲相與Whitesides教授合影。分子尼奧/提供

分子尼奧位於竹南科學園區，深耕量子技術多年，積極與國際接軌，推動臺灣新創在未來量子產業鏈的發展。林仲相帶領團隊專注於光子晶體材料研究超過20年，憑藉豐富的國內外科技經驗，奠定穩固技術基礎，並持續推動量子應用發展。

全球量子科技與客製化高階製程推動下，分子尼奧在量子光電產業的製程實力不斷精進，在數據中心、擴增實境(AR)眼鏡、超穎光學鏡頭(Metalens)與生物晶片(Bio-Chip)等領域開拓更多應用，協助臺灣製造走向全球量子科技舞臺。

林仲相與Langer教授合影。分子尼奧/提供

林相仲指出，量子技術與應用議題在全球先進科技領域快速崛起。隨着人工智慧晶片、AR眼鏡及超穎光學鏡頭等高科技產品導入市場，奈米壓印製程技術爲實踐量子應用發展的重要途徑，應用場景愈加清晰。

分子尼奧專注在晶圓級化合物半導體材料的高精度加工，提供涵蓋沉積、蝕刻與對位等完整製程解決方案，以奈米壓印技術爲核心，積極推動量子應用發展。林仲相表示，新一代晶片製程技術邁入埃米(Å）世代，並透過3D堆疊等先進半導體制程試圖突破莫爾定律的極限。但製程仍面臨高耗電、散熱與運算速度等挑戰。量子技術商業化有望優化現有設計技術，爲未來電子、光學與運算架構開啓更多應用。

林仲相參訪哈佛大學化學系。分子尼奧/提供

林仲相熟悉全球科技產業生態與競合關係，深刻理解國際科技主導力量對產業發展的影響。他指出，臺灣目前掌握約95%高階晶片產能，國際意識到產業製造過度集中風險，須積極推動製造與解決方案多元化佈局。以全光傳輸爲核心的新世代數據中心架構快速發展，帶動新一波技術發展需求。

新一代數據中心將架構超高頻寬全光傳輸，速度更快、體積更小，也能降低能耗與發熱。雷射是目前主流光源技術， Microled也具潛力。分子尼奧的目標客戶銜接上述應用，成爲產業鏈的核心。