ASML申請用於光刻設備的原位清潔專利，將EUV輻射的衝擊光子轉換成自由電子

金融界2025年7月19日消息，國家知識產權局信息顯示，ASML荷蘭有限公司申請一項名爲“用於光刻設備的原位清潔”的專利，公開號CN120344913A，申請日期爲2023年12月。

專利摘要顯示，一種用於代替光刻設備中的圖案形成裝置來使用的光電板（300），所述光電板包括：基底層（301）；和塗層（302），所述塗層設置在所述基底層上；其中所述塗層被配置成相較於所述基底層以更高轉換效率將EUV輻射的衝擊光子轉換成自由電子。

本文源自：金融界

作者：情報員