ASML慘了！臺積電高層一句話太驚人 最新EUV機臺只賣了5臺

艾司摩爾NA EUV太貴，臺積電暫時沒有計劃在A14及其後續製程中導入。（示意圖/達志影像/shutterstock）

荷蘭艾司摩爾（ASML）全新機臺卻讓臺積電望之卻步！英媒指出，儘管艾司摩爾最新一代的高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備性能強大，但因這款機臺單價高達4億美元（約新臺幣120億元），臺積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時沒有計劃在A14及其後續製程中導入。

路透27日報導，這款先進機臺價格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現有最昂貴設備的兩倍。目前，各家晶片製造商正在仔細評估，這款設備在曝光速度以及解析度上面的提升，是否真的符合如此高昂的價格。

臺積電技術開發資深副總經理張曉強表示，即便不使用High-NA EUV設備，A14製程仍能實現顯著的技術升級。「因此，我們的技術團隊將持續專注於微縮（scaling）效益的開發，並致力於延長現有Low-NA EUV（低數值孔徑極紫外光）微影設備的使用壽命。」

張曉強坦言：「只要我們能持續找到替代方案，就沒有必要採用這款昂貴的設備。」事實上，早在去年，張曉強就曾公開表示，他對High-NA EUV技術抱持肯定態度，但對其價格感到卻步。

相較之下，臺積電競爭對手英特爾，已經計劃在未來製程「14A」當中，使用High-NA EUV機臺，並且試圖藉此來振興晶圓代工事業，提升對臺積電的競爭力。然而，英特爾也強調，客戶仍然可以選擇使用舊款且經過驗證的技術。

艾司摩爾執行長福凱特（Christophe Fouquet）日前在法說會上提到，預計客戶將於2026年至2027年間進行高NA設備的量產準備測試，屆時業界纔有可能考慮在最先進的製程中全面導入。

目前，艾司摩爾已向三家客戶交付總共5臺高NA設備，包括英特爾、臺積電以及韓國三星。這機臺重達180公噸、體積如同雙層巴士，堪稱全球最昂貴的半導體制造設備之一。